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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆加工厂坐落华北东南部,最主要研发84英寸半导体器件晶圆,每日生活污水减排量约800吨。仍然研发具体步骤中安全使用大量氢佛酸开始晶圆蚀刻,导至生活污水里氟化物浓硫酸浓度万代高达200-300mg/L,远超各国减排标准(10mg/L一下)。 污废水 化学物质及从何而来 生产废水主要产自4个教学环节: 晶圆蚀刻生产工艺 :含高质量浓度氟化物(HF)、氰化钠及一些巨资属 生物机诫镜面抛光(CMP)电镀废水 :含奈米级硅粉末、有机的络合剂 机清洁废水处理 :含异丙醇、化学需氧量等有机化学物 处里的工艺方案 主要采用"化工沉定+混凝土沉定+高度吸附"三级职业资格证书处里整体: 一级通过成绩办理 :污泥脱水氯化钙和氢钝化钙,组成氟化钙积累,氟化物快速清理率达85% 中级整理 :使用PAC(配位聚铝)和PAM(PP酰胺),消除氢氧化铁态影响物 三级视频治疗 :完成多导电介质滤出器和几丁质酶炭吸附剂,留水氟化物氨水浓度平衡在8mg/L一下 重点机以及:pH自行调结装置、斜管凝固池、板框压泥机(污泥处理脱水怎么办)。 最中结果 新项目执行一年监测方案数剧界面显示: 氟化物年均渗透压:7.2mg/L(低过国标准规定) COD的还原率:92% 厌氧颗粒污泥水分含量率:≤65% 年出售氟化钙副设备约150吨,建立产品化利于

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