某半导体行业电子器件生产九正通明在晶圆精加工时中，应用硅烷参与硅外加滋生，排放洗涤剂塔出显高氧化还原电位含硅生活污水。生活污水兼备pH下降大（2-11）、硅含量高的特征 ，传统与现代操作形式易出显硅垢堵赛大问题。 电镀废水物质及因素 生活污水主耍物质为： 充分均匀溶解性硅酸盐 ：SiO₂盐浓度达1000-1500mg/L 硝酸钠/氢脱色钠 ：洗衣塔碱酸洗衣液留 颗粒状硅 ：nm级SiO₂固体 痕量砷 ：原辅材料不溶物带去 净化处理新制作工艺步骤 特色化按照"两极采和+膜过虑+蒸发掉晶粒"生产工艺： 五级结合 ：用CaO调结pH至4-5，生成二维码硅酸钙水解，硅去掉率60%。 一级采和 ：加Na₂CO₃将pH升降至9，进的一步发展超过硅，电容串联用镁剂除砷。 反渗透膜操作系统 ：0.02μm陶瓷制品膜净化nm级硅颗粒肥料，通量相对稳定在80LMH。 MVR减压蒸馏器 ：提液高盐废水处理，晶体出Na₂SO₄副设备，水回收率超90%。 之后功能 总硅从1500mg/L下降5mg/L下述 砷分量从0.8mg/L降低0.01mg/L 程序无水垢操作超2年 今年收售磷酸钠结晶体约800吨